N2U - 钛刻 - 科技风向旗 - 深度刻画技术趋势,引领数字未来 - 钛刻科技 | TCTI.cn

N2U - 钛刻 - 科技风向旗 - 深度刻画技术趋势,引领数字未来 - 钛刻科技 | TCTI.cn - 钛刻 (TCTI.cn) 为您提供最前沿的硬核科技资讯、深度评测和未来技术趋势分析。

共 2 篇相关文章

台积电:美国芯片厂良率与本土相当 再转移2大核心技术到美国

在日前的北美技术论坛上,台积电不仅宣布了A13、A12、N2U等新工艺技术,同时还谈到了台积电在美国的芯片布局战略。对于在美国建厂,业界一直的担心是美国成本太高,是否会影响台积电的利润,这主要反映在良率上, CEO魏哲家表示台积电在美国亚利桑那州的芯片工厂进展顺利,良率已经跟台积

tech plink.anyfeeder.com 2026-04-23 21:35:10+08:00

台积电公布制程技术路线图:A12、A13与N2U亮相 A16量产推至2027年

台积电在本周三于北美技术论坛上公布了其一直延伸到2029年的先进制程技术路线图,系统梳理了1.2纳米与1.3纳米级别的新一代制程(A12、A13),意外揭晓了N2家族的新成员N2U,并确认在2029年前的各节点规划中仍未引入高数值孔径(High‑NA)EUV光刻机。 相比具体节点

tech plink.anyfeeder.com 2026-04-23 15:05:20+08:00